レーザ彫刻モジュール

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超精密モジュール

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消費レベルの高出力アプリケーションシーン
汎用加工モジュール

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大電力アプリケーションシーン向け
精密彫刻モジュール

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集積DFC動的ズーム技術とLIC光強度制御技術
パターン彫刻モジュール

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±0.1 mm焦点精度×8時間減衰なし、曲面彫刻効率60%向上