Schlüsseltechnologien für Streckenmaterialien

Innovation schlägt hochwertige UV-LED-Ausdehnungsmaterialfehler und Spannungskontrolltechnologie vor, um die Bitfehlerdichte von UV-LED-Materialien auf 3 x 108 cm-² zu reduzieren, um das internationale fortgeschrittene Niveau zu erreichen

Bitfehlerdichtesteuerung

Verringerung der Bitfehlerdichte auf 3×108 cm VerVerringerung des internationalen fortgeschrittenen Niveaus

Stress effektiv freisetzen

Innovative Pyramide Nano-Grafik NPSS Substrate Extended Wachstum Heilung Technologie

Nobelpreisträger anerkannt

Nobelpreisträger für Physik 2014, Nakamura

Innovative Technologien zur Fehler- und Spannungskontrolle von hochwertigen UV-LEDs

bahnbrechende Verbesserung der Qualität von Streckstoffen durch grafische Substrate, Dickenkontrolle, Bit-Fehler-Fusion und Spannungsablösungstechnologien

Grafische Oberflächenformation

Die grafische Substratoberfläche, die mit dem Atomkraftmikroskop (AFM) beobachtet wird, zeigt eine regelmäßig angeordnete pyramidförmige oder kegelförmige Struktur, die gleichmäßig verteilt ist und die ideale Schablone für das erweiterte Wachstum bietet

Eigenschaften der Oberfläche
Pyramidenförmiges Mikrostrukturarray
Regel-Raster-Anordnung
3D Oberflächenkontrolle

Dicken über 10 µm

Ein Scan-Elektronenmikroskop-Schnittbild (SEM) zeigt das Wachstum einer AlN-Schicht auf einem Saphirsubstrat mit einer Dicke von mehr als 10 µm, das sich vertikal erstreckende Luftlöcher enthält

Strukturstufe des Materials
AlN-Schicht Dicke > 10 µm
Luftloch Vertikal erweitert
Sapphire Unterlage h = 6. 6µm

Biegungsvernichtung beim Bitfehler-Fusionsprozess

Transmittionselektronenmikroskop-Bilder (TEM) zeigen den Prozess der Biegung, Fusion und Zerstörung von Bitfehlern in der Extensionsschicht während des Wachstumsprozesses, wodurch die Fehlerdichte effektiv reduziert wird

Fehlerkontrollmechanismus
Falsche Biegung
Bit-Fehler-Fusion
Fehler vernichtet

Stress effektiv freisetzen

Die Reverse Easy Spatial Mapping (RSM)-Analyse zeigt den Spannungszustand und die Kristallmasse des Materials und ermöglicht ein hohes Qualitätswachstum mit einer effektiven Spannungsablösungstechnik

Spannungsanalyseparameter
Qx×10000 (rlu) 2810-2880
Qz×10000 (rlu) 7715-7750
Stresszustand Effektive Freisetzung

Technologie und geistiges Eigentum

Innovationen auf der Grundlage der Extension-Technologie werden von Nobelpreisträgern anerkannt und erfolgreich in der Satellitenkontrolle eingesetzt

Kernpatente

Ultrabreite Verbotsband-Aluminiumnitrid-Ausdehnungen und deren Herstellungsverfahren
Patentnummer: ZL201811380251.1
Ein heterogenes Extrusionssubstrat für tiefe UV-LED und seine Herstellungsmethoden und Anwendungen
Patentnummer: ZL202110397975.2

Repräsentative Abhandlungen

Applied Physics Letters
2019, 114. 4
Optics Express
2018, 26. 2: 680-686

Anwendungsergebnisse

"Ocean One" Satellitenkontrolle
Online-Überwachung der Meeresumwelt
Materialanwendungen von AlGaN
Erfolgreiche Anwendung in Satellitensystemen

Bewertung der Nobelpreisträger

Nobelpreisträger für Physik 2014 Nakamura

"Diese technologische Innovation verspricht die Realisierung von AlN/NPSS mit niedriger Bitfehlerdichte durch innovative Wachstumsmethoden und Hitztechnologien

Zusammenfassung der technischen Vorteile

Innovative Pyramide Nano-Grafik NPSS Substrate Technologie
Effiziente Belastungsfreisetzung und Förderung der Bitfehlerkontrolle
Bitfehlerdichte reduziert auf 3×108 cm-²
Internationales fortgeschrittenes Niveau erreichen
Erfolgreiche Anwendung in der Satellitenkontrolle
Hoch bewertet von Nobelpreisträgern